【名称】
半暴露技术
【概述】
半暴露技术即创面覆盖单层治疗性敷料。目的是保护创面,使创面有良好的上皮生长环境,达到痂下愈合。半暴露兼有暴露和包扎的优点,一般多于渗出期后实施。
【适应证】
1.浅Ⅱ度创面,包扎1~2d后。 2.坏死组织少且感染轻的深Ⅱ度创面。 3.自体异体(异种)皮混合移植术后7d左右。 4.供皮区包扎术后5~7d。 5.脱痂、剥痂术后。 6.头面、颈、臀、会阴烧伤创面。
【禁忌证】
1.严重感染或溶痂创面。 2.肉芽创面。
【操作方法】
1.创面清创后,无菌操作下依条件选用单层的生物敷料(异体皮、异种皮、胶原膜)、合成敷料、药物纱布(局部抗菌药、生长因子等)或凡士林纱布覆盖创面,平展、紧密贴敷,不留死腔。 2.异体(异种)皮移植术后,或供皮区,将外层敷料打开,如无积液、感染,内层敷料任其暴露,痂下愈合。 3.经常检查,如纱布下局部有积液或感染,可开窗引流。感染范围大时应及时更换敷料,或改用湿敷、浸泡处理创面。 4.更换敷料时应浸湿纱布,软化后,轻揭敷料,避免疼痛、出血和对上皮损伤。
【注意事项】
1.保持室内清洁干燥,保温,通风。 2.创面坏死组织应基本清除干净。 3.敷料外观干燥时,其下面也可能出现积脓、积液。挤压敷料可发现异常。 4.创缘如有痂皮掀起,应及时修剪,以免撕破未愈创面。 |