在气雾栽培系统构建时一般营养液池建于地下，一是方便回流，二是有利于液温的稳定。气雾栽培涉及两区域空间的环境控制，地上部份的温室环境，地下部份的根域环境，温室环境采用各种调控措施，最大可能地为植物生长创造适宜的温光气热环境，地下根域环境通过气雾法创造最佳的肥水气环境外，还要涉及到根区温度问题，根区温度在密闭的空间内，除了受外环境影响外，液温对根区温度的影响最大。
为最大化减少外环境对根区的影响，一般定植板采用隔热性较好的挤塑板制作成定植板。根雾养液的温度对作物的影响就如土耕作物的地温。通过多年的实践研究，液温最适范围以18-23度为佳，但不同的品种最适液温会有变化，在这区间内几乎适合绝大多数植物的根温需求。耐寒的作物可以稍低，于15-18度范围，耐热的品种可以在20-25度范围，但超出该范围都会对吸收及地上部份的生长造成不良影响。达尔文曾说过，如果植物有大脑，最有可能就是在根部。根据这理论猜想，结合生产实践，的确很大程度上是符合该科学推理。在温室栽培中，通过根温的有效控制其产生的生长效应的确比温室气候环境调控效果更好，早春或冬季，对根温进行干预，提高一度相当于空气温室提高3度的效果，夏日降低根温可以解决外环境对生长造成的高温胁迫问题，在热带地区，可以能过降低根温（即营养液温室）实现作物高温季的正常栽培，甚至一些不耐高温的小青菜或结球生菜，通过液温控制在18-21度左右，夏日照常可以正常生长，可以正常结球也没有叶片小型化与散生问题。也就是可以有效解决外环境高温胁迫的生理影响，在阿联奠通过液温控制可以正常生产小黄瓜，通过液温控制我们已在阿联奠正常生产气雾培蔬菜。
液温与气温不同，相对稳定的液温有利于根系发育及地上部生长，如果比喻性的语言来说就是，根如大脑，健康的身体必须保持大脑的冷静一样。外界气温虽有较大波动，但如果能确保稳定而适宜的液温范围，气候对作物生长的不良影响将大大减小。
根温过低，会导致磷的释出，根温过高会让雾培根系生长素合成减少，根系集结，伸长区与生长点发育受阻，继而影响对各种元素的吸收障碍，导致缺铁、缺钾、缺钙等缺素症发生。根温超过34-40度，气雾栽培也同样会出现大量烂根。
对液温的控制，节能的方式:
- 建成地下，池子容量增大，以提高温度缓冲性。
- 池壁结合隔热材料建设。
- 于池内壁环绕水管，夏日管内可以循环地下水降温，冬季可以用热水循环加温，或者冬季直接于水中配水加热线。
总之对液温的干预，其生长效应大大高于温室气候的调节，可以达到更节能的效果。
在阿联奠采用液温控制成功栽培水果黄瓜
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