溅射是物理气相沉积技术的另一种方式,有人要问了溅射工艺是怎么实现的呢?下面的视频告诉了我们答案。 溅射的过程是由离子轰击靶材表面,使靶材材料被轰击出来的技术。整个过程是在真空腔体中完成的。溅射开始时将氩气充入真空腔体中形成低压氩气氛围,再通过使用高电压,产生辉光放电,加速离子到靶材表面。氩离子将靶材材料从表面轰击(溅射)出来,在靶材前面的被涂层工件上沉积下来,这整个过程就好像是在打台球。 好了,想知道更多,就看看下面的视频吧。 【视频】友情提示,建议在wifi下欣赏 |
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