|
作者简介：苏丹，国家知识产权局专利局电学发明审查部审查员，专利局骨干人才。曾参与《产业专利分析报告：高端存储系统》等多项课题，参与商业方法领域专利保护政策及审查标准研究工作，发表多篇知识产权业务文章。 封面及本期部分图片来自网络  专利规避设计（Design Around），又称专利回避设计。规避设计的出发点是在法律层面上绕开已有专利权的保护范围，避免潜在的法律风险，其核心在于技术方案的差异化设计。规避设计不仅是预防和应对专利侵权的重要手段，也是一种行之有效的研发手段以及专利挖掘的重要途径。 通常，专利规避设计可遵循“简化”和“替代”这两项基本原则。简化原则通过对在先专利的技术方案构成要件进行删减，使得改型方案缺少其中一个或多个构件要件以避免专利侵权；替代原则则是通过改变在先方案中的一个或多个构成要件，使得改型方案中一个或多个技术特征与在先专利的技术特征不相同也不等同，从而避免专利侵权。 不同领域的专利规避设计，因其技术构成要素不同，改型的侧重点也有所不同。针对机械或电子产品的规避设计，通常从零部件（例如：功能近似的不同元件、削减元件相应减少功能…）、组装方式（固定式/可拆卸式组装…）、连接关系（直接连接/间接连接…）、控制方法（控制条件、操作步骤）这几个构成要件来考虑。 而材料、化学及医药领域的产品通常为特定组分的组合物或者化合物，其技术方案的构成要件包括产品的组成成分、组分之间的配比、以及产品在通常状态下所呈现出的固态、液态或者气态的形态，规避设计通常会考虑组分及其配比的不同，同时，也尝试采用不同的产品形态，考虑不同的制备工艺。 外观设计类产品多针对产品所呈现的形状、色彩、图案及其组合进行该改型，也可尝试将现有设计应用于不同类别的产品。 针对规避设计进行专利挖掘的首要步骤是明确规避目的、确定规避主题，在此前提下进行针对性的专利检索和技术分析，提出差异性的设计方案，经过方案评估，最终得到规避设计方案和相应的专利申请。 针对规避设计的专利挖掘流程如下图所示： 本期内容来自《专利挖掘》第六章，欲知详情请翻阅书籍或者持续关注本公众号。 |
|
|
