|
11月3日，全球最大半导体光刻设备商 ASML 宣布以10亿欧元现金收购德国卡尔蔡司(ZEISS) 子公司蔡司半导体有限公司(Carl Zeiss SMT) 24.9% 股份。
双方将合作开发用于下一代EUV系统的全新高数值孔径 (High NA) 光学系统， ASML将于未来六年内投入约7.6亿欧元支持Carl Zeiss SMT的研发和资本支出。全球半导体微影技术领导厂商艾司摩尔 (ASML) 和德国卡尔蔡司 (ZEISS) 旗下的蔡司半导体有限公司 (Carl Zeiss SMT) 昨日共同宣布由ASML以10亿欧元现金收购Carl Zeiss SMT的24.9% 股权，以强化双方在半导体微影技术方面的合作，发展下一代EUV微影系统，让半导体产业得以用更低的成本制造更高效能的微芯片。目前双方并没有进一步股权交换的计划。Carl Zeiss SMT是ASML最重要的长期策略合作伙伴，30多年来，为ASML的微影设备提供最关键且高效能的光学系统。为了在2020年代初期就能够让芯片制造产业使用搭载全新光学系统的新一代EUV微影设备，ASML和Carl Zeiss SMT决定进一步强化合作关系。ASML 总裁暨执行长Peter Wennink表示 : 全球第一个由EUV微影设备制造出来的芯片可望于2018年问世。过去多年来我们做了许多努力，确保能将EUV顺利导入客户的量产阶段，并和我们的浸润式微影系统紧密连接。我们即将达到这个重要的里程碑。而现在，ASML和ZEISS展望的是下一个阶段。透过这个协议，我们将共同全力发展下一代EUV光学系统，让我们的客户能够在2020年后的10年间，充分回收他们在EUV上的投资。
下一代的EUV光学系统将提供更高的数值孔径(NA, numerical aperture )，以进一步缩小微影制程中的临界尺寸(critical dimensions)。ASML目前的EUV微影系统搭载的是0.33 NA的光学系统。而新一代的EUV微影系统则将搭载NA 0.5以上的光学系统，可以进一步支持3奈米以下制程。除了协议由ASML持有Carl Zeiss SMT少数股权外，ASML也将在未来六年内，投资约2.2亿欧元来支持Carl Zeiss SMT在光学微影技术上的研发，以及约5.4亿欧元的资本支出和其他相关供应链投资。ASML总裁暨技术长Martin van den Brink表示 : 提高数值孔径(NA, numerical aperture )是发展EUV的下一步。高数值孔径的EUV是实现3奈米以下逻辑节点制程一个比较健康的方式 — 只需要单次微影曝光，可提高生产力并降低单位成本。而这也再次重申ASML协助半导体产业持续推进摩尔定律的承诺。总部位于荷兰的艾司摩尔是全球芯片微影设备的市场领导者。面对摩尔定律所带来的技术挑战，艾司摩尔不断挑战技术极限，让终端消费者能够用合理的价格买到功能越来越强大、尺寸越来越小的电子产品。30年来，艾司摩尔的成功来自于和客户及供货商紧密合作所共同创造的领先技术、高效能的流程和优秀的员工。为了吸引国际顶尖人才，艾司摩尔致力于提供一个具启发性的工作环境，让全球优秀的工程师聚集在此工作、学习和分享。艾司摩尔在全球16个国家设有70个办公室，员工超过15,000人，在台湾员工近1,500人。ASML为荷兰阿姆斯特丹证券交易所和美国NASDAQ上市公司。
|
