|
嵌体边缘设定在牙冠中央处 对已经处理过（CR)的牙齿和健全牙的情况分开考量。 嵌体不适合的如较大的Ⅱ类窝洞缺损这样病例，可以采用高全瓷高嵌体来修复。但随着粘结技术的发展，以前只能用全冠修复的病例，现在也可用高嵌体进行修复，牙本质也能得到很好的保存。但是，由于陶瓷的抗压强度没金属高，所以设计洞型时注意不要让应力都集中到牙本质和瓷修复体上。 在制备全瓷高嵌体时，如果已经进行CR嵌体修复的话牙齿，容易发生继发龋，如果是没进行过任何处理的健全牙的话，则不容易发生继发龋。因此，由于洞型设计受先行处理形态的影响，所以要将其与健全牙的制备分开来设计。 高嵌体的边缘原则上是设计在牙冠中央处上方。因为这里的牙本质会比牙颈部的牙本质厚，另外就是这里没受污染（因为菌斑附着导致脱矿）的健全牙本质多。因此高嵌体就该选择粘贴在这种品质高的牙本质上。 高嵌体边缘形态是四周呈圆滑连续的移行，并能覆盖牙本质小柱。嵌体厚度要有1.5mm以上（图1）。制备成无角圆滑的形态，让应力不要集中。 如果是制备健全牙，尽可能保存住牙本质，形态做成圆滑的凸型。 图1 在制备全瓷高嵌体时，其边缘四周呈1mm厚的浅凹型肩台于轴面呈斜面移行或圆形线（见左图），牙尖厚度在1.5mm以上。嵌体边缘在牙冠中央上部，能覆盖整个牙本质小柱（见右图）。 图2用全瓷高嵌体修复（左上6）。牙体制备设计受先行处理的影响。四周设计成圆形边缘，注意不要制备成箱形，制备时具有流线型和过渡幅度。 图3用全瓷高嵌体修复（左上6）。是受先行处理的病例。对舌侧厚度超过2~2.5mm的牙本质进行保留，制备时要有过渡幅度，边缘处要能覆盖牙本质小柱。 图4Ⅱ级嵌体的折裂。像这样要把牙尖全部覆盖住的高嵌体，牙体制备时呈凸型并呈流线型过渡。边缘处要能完全覆盖牙本质小柱。 |
|
|
