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场效应管的工作原理(一)

 学就比不学强 2018-10-15

场效应管是较新型的半导体材料,利用电场效应来控制晶体管的电流,因而得名。它的外型也是一个三极管,因此又称场效应三极管。它只有一种载流子参与导电的半导体器件,是一种用输入电压控制输出电流的半导体器件。从参与导电的载流子来划分,它有电子作为载流子的N沟道器件和空穴作为载流子的P沟道器件。从场效应三极管的结构来划分,它有结型场效应三极管和绝缘栅型场效应三极管之分。

1.结型场效应三极管

(1) 结构

N沟道结型场效应三极管的结构如图1所示,它是在N型半导体硅片的两侧各制造一个PN结,形成两个PN结夹着一个N型沟道的结构。两个P区即为栅极,N型硅的一端是漏极,另一端是源极。

场效应管的工作原理(一)

图1

图1结型场效应三极管的结构

(2) 工作原理

以N沟道为例说明其工作原理。

当UGS=0时,在漏、源之间加有一定电压时,在漏源间将形成多子的漂移运动,产生漏极电流。当UGS<>

(3)特性曲线

结型场效应三极管的特性曲线有两条,一是输出特性曲线(ID=f(UDS)|UGS=常量),二是转移特性曲线(ID=f(UGS)|UDS=常量)。N沟道结型场效应三极管的特性曲线如图2所示。

场效应管的工作原理(一)

图2

图2N沟道结型场效应三极管的特性曲线

2. 绝缘栅场效应三极管的工作原理

绝缘栅场效应三极管分为:耗尽型 →N沟道、P沟道 增强型 →N沟道、P沟道

(1)N沟道耗尽型绝缘栅场效应管

N沟道耗尽型的结构和符号如图3(a)所示,它是在栅极下方的SiO2绝缘层中掺入了大量的金属正离子。所以当UGS=0时,这些正离子已经感应出反型层,形成了沟道。于是,只要有漏源电压,就有漏极电流存在。当UGS>0时,将使ID进一步增加。UGS<>

场效应管的工作原理(一)

图3

图3N沟道耗尽型绝缘栅场效应管结构和转移特性曲线

(2)N沟道增强型绝缘栅场效应管

结构与耗尽型类似。但当UGS=0 V时,在D、S之间加上电压不会在D、S间形成电流。 当栅极加有电压时,若0UGS(th)时,形成沟道,将漏极和源极沟通。如果此时加有漏源电压,就可以形成漏极电流ID。在UGS=0V时ID=0,只有当UGS>UGS(th)后才会出现漏极电流,这种MOS管称为增强型MOS管。

N沟道增强型MOS管的转移特性曲线,见图4。

场效应管的工作原理(一)

图4

图4转移特性曲线

(3)P沟道MOS管

P沟道MOS管的工作原理与N沟道MOS管完全相同,只不过导电的载流子不同,供电电压极性不同而已。这如同双极型三极管有NPN型和PNP型一样。

3 主要参数

(1) 直流参数

指耗尽型MOS夹断电压UGS=UGS(off) 、增强型MOS管开启电压UGS(th)、耗尽型场效应三极管的饱和漏极电流IDSS(UGS=0时所对应的漏极电流)、输入电阻RGS.

(2) 低频跨导gm

gm可以在转移特性曲线上求取,单位是mS(毫西门子)。

(3) 最大漏极电流IDM

2 场效应半导体三极管

场效应半导体三极管是只有一种载流子参与导电的半导体器件,是一种用输入电压控制输出电流的半导体器件。从参与导电的载流子来划分,它有电子作为载流子的N沟道器件和空穴作为载流子的P沟道器件。从场效应三极管的结构来划分,它有结型场效应三极管JFET(Junction type Field Effect Transister)和绝缘栅型场效应三极管IGFET( Insulated Gate Field Effect Transister) 之分。IGFET也称金属-氧化物-半导体三极管MOSFET (Metal Oxide Semicon-ductor FET)。

2.2.1 绝缘栅场效应三极管的工作原理

绝缘栅场效应三极管(MOSFET)分为:

增强型 →N沟道、P沟道

耗尽型 →N沟道、P沟道

N沟道增强型MOSFET的结构示意图和符号见图02.13。 电极D(Drain)称为漏极,相当双极型三极管的集电极;

G(Gate)称为栅极,相当于的基极;

S(Source)称为源极,相当于发射极。

(1)N沟道增强型MOSFET

① 结构

根据图02.13,N沟道增强型MOSFET基本上是一种左右对称的拓扑结构,它是在P型半导体上生成一层SiO2 薄膜绝缘层,然后用光刻工艺扩散两个高掺杂的N型区,从N型区引出电极,一个是漏极D,一个是源极S。在源极和漏极之间的绝缘层上镀一层金属铝作为栅极G。P型半导体称为衬底,用符号B表示。

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图02.13

图02.13 N沟道增强型MOSFET的结构示意图和符号

② 工作原理

1.栅源电压VGS的控制作用

当VGS=0 V时,漏源之间相当两个背靠背的二极管,在D、S之间加上电压不会在D、S间形成电流。

当栅极加有电压时,若0

进一步增加VGS,当VGS>VGS(th)时( VGS(th) 称为开启电压),由于此时的栅极电压已经比较强,在靠近栅极下方的P型半导体表层中聚集较多的电子,可以形成沟道,将漏极和源极沟通。如果此时加有漏源电压,就可以形成漏极电流ID。在栅极下方形成的导电沟道中的电子,因与P型半导体的载流子空穴极性相反,故称为反型层。随着VGS的继续增加,ID将不断增加。在VGS=0V时ID=0,只有当VGS>VGS(th)后才会出现漏极电流,这种MOS管称为增强型MOS管。

VGS对漏极电流的控制关系可用iD=f(vGS)?VDS=const这一曲线描述,称为转移特性曲线,见图02.14。

场效应管的工作原理(一)

图02.14

图02.14 转移特性曲线

转移特性曲线的斜率gm的大小反映了栅源电压对漏极电流的控制作用。 gm 的量纲为mA/V,所以gm也称为跨导。

跨导的定义式如下:

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3.双极型和场效应型三极管的比较

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