指甲盖大小的芯片,密布千万电线,纹丝不乱,需要极端精准的照相机——光刻机。光刻机是芯片制造的核心设备之一,这种光刻的工作原理是入射光照射在透镜表面的小探针上,从而激发产生plasma,产生波长非常短的等离子体,然后在光刻胶上刻出非常小的图形。相当于两架大飞机从起飞到降落,始终齐头并进。一架飞机上伸出一把刀,在另一架飞机的米粒上刻字,不能刻坏了。 总的来说,就是非常复杂,光刻设备号称地表最为复杂精密的东西,当然造价也是最昂贵的,在这个精密行业一直都是荷日称霸,这个价值1亿美元的设备,我国曾经提出花100亿购买,但是人家坚决不卖。目前世界上能自主研发生产芯片的光刻机企业也就三家,日本的佳能和尼康还有荷兰的ASML公司。 多年来,我国的芯片一直靠进口,而且他们都不约而同的打压我国的光学领域,不仅限制核心光刻技术进口,有的连纳米芯片都不让我们研究,就是为了掌控住我国每年近2000亿的芯片大市场。虽然中国在光刻机进口上受到种种限制,但压抑太久迟早要爆发。 由中国科学院光电技术研究所承担的国家重大科研装备——超分辨光刻装备项目已经在成都通过验收,这是我国成功研制出的世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备,光刻分辨力达到22纳米,结合多重曝光技术后,可用于制造10纳米级别的芯片。这确实是中国光刻机领域的一大突破,也闯出了一匹黑马。我国也成为了世界上第三个自主研发光刻机的国家。 但是从事实角度出发,该光刻设备能不能刻芯片,打破国外垄断?光电所专家回答说,用于芯片需要攻克一系列技术难题,还有很长的一段路要走,我们不能满足于现状,仍然要奋起直追。 |
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