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建模思路分析：这次纹理采用手动的方式进行构造，先找出单元形，单元形构建完成后直接阵列即可。 01 绘制两个圆作为纹理边界；  02 绘制纹理造型曲线；  03 偏移曲线（此处偏移曲线时记得勾选松弛）；  04 将偏移的曲线环形阵列12个（打开记录建构历史及更新子物件）；  05 阵列的12个对象再次镜像，构建完整纹理造型；  06 移动点将外部造型轮廓调整好（切记记录建构历史打开）；  07 再绘制圆限制外部纹理边界；  08 所有线选中修剪出单元形；  09 将单元形曲线炸开；  10 所有曲线重建二阶三点；  11 构建每一个双轨曲面； 12 打开曲面控制点； 13 选择最中间的点用UVN移动将点往下调整； 14 复制调整之后的曲面的边框； 15 将边框阵列并群组（方便选择）； 16 借助边框曲线将底部平面分割； 17 单元形曲面阵列。 |
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