三.抛光模的选择
抛光模应该用软一点的。应该指出的是,很多聚氨酯抛光片中添加了氧化铈抛光粉。这些抛光粉的最大颗粒度同样决定了最终的抛光精度。一般最好使用不加抛光粉的抛光模。
四.影响抛光粉性能的指标
1、粉体的粒度大小:颗粒的大小及均匀度决定了抛光速度和精度,过筛的筛网目数能掌握粉体相对的粒度的值,平均粒度决定了抛光粉颗粒大小的整体水平。
2、粉体莫氏硬度:硬度相对大的粉体具有较快的切削效果,同时添加一些助磨剂等等也同样能提高切削效果;不同的应用领域会有很大出入,包括自身加工工艺。
3、粉体悬浮性:好的抛光粉要有较好的悬浮性,粉体的形状和粒度大小对悬浮性能具有一定的影响,片形及粒度细些的抛光粉的悬浮性相对的要好一些,但不是决对的。抛光粉悬浮性能的提高也可通过加悬浮液(剂)来改善。
4、粉体的晶型:粉体的晶型是团聚在一起的单晶颗粒,决定了粉体的切削性、耐磨性及流动性。粉体团聚在一起的单晶颗粒在抛光过程中分离(破碎),使其切削性、耐磨性逐渐下降,不规则的六边形晶型颗粒具有良好的切削性、耐磨性和流动性。
五.抛光范围细分:
作为精细抛光材料,目前市场上用量最大的几类抛光粉主要是氧化铝抛光粉,氧化铈抛光粉,氧化硅抛光粉等。
1.氧化铝抛光粉:
氧化铝抛光粉(VK-L300F)一般用于大理石石材抛光,金属铝材抛光,金属不锈钢抛光,金相(亚克力板)抛光,PCB印制电路板抛光,油漆抛光,树脂抛光,玉石抛光,颗粒大小根据要求一般分布在0.2-0.5um之间。
2. 二氧化硅抛光粉:
一般用于人工晶体,宝石抛光,或者金属制品精抛后修复其少量的瑕疵。其粒径一般分布在0.3-1um。
3. 氧化铈抛光粉或者抛光液(VK-Ce02W):
用于镜头、电视显像管、眼镜片、晶圆,光学元件、光纤、艺术玻璃、电子玻璃、平板玻璃等的抛光。一次粒径一般要求在20-30nm,二次粒径一般要求0.2um。