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日前，三星电子在位于美国的 2018 年三星半导体代工论坛上，公布其全面的芯片制程技术路线图，目前已经更新至 3nm 工艺。 在路线图中，三星公布 7nm LPP（7nm Low Power Plus）、5nm LPE（5nm Low Power Early/Plus）、4nm LPE/LPP（4nm Low Power Early/Plus）和3nm GAAE/ GAAP（3nm Gate-All-Around Early/Plus）工艺技术的计划。其中 Low Power 指的是低功耗，Gate-All-Around 即 GAA，指全环栅技术。Early 为前期，Plus 为增强版。 据介绍，三星的 7nm LPP 将成为该公司首款使用EUV（极紫外光刻）方案的半导体工艺技术。以往三星的制程工艺都会分为 LPE 和 LPP 两代，不过 7nm 算是个例外，没有 LPE。之前已公布，三星 7nm LPP 将于 2018 年下半年量产，2019 年的高通和三星芯片有望采用该制造工艺。 三星表示，在 7nm LPP 之后推出的 5nm LPE 将为 SoC 芯片提供更大的扩展面积和超低功耗优势。此外，FinFET 技术的使用将持续至 4nm 工艺。相比上一代 5nm，三星的 4nm LPE 和 LPP 可提供更小的尺寸、更高的性能和更快的速度。 不仅如此，三星还提及了其 3nm 工艺，预计于 2022 年量产。从 3nm 开始，三星将抛弃 FinFET 结构，转而采用下一代器件架构 GAA。为了克服 FinFET 结构在尺寸和性能方面的限制，三星正在开发基于 GAA 技术的 MBCFET（Multi Bridge Channel FET，多桥通道），预计 3nm GAAE 和 GAAP 的性能将更进一步提升。 与此同时，三星还强调了芯片关于人工智能（AI）和机器学习能力的发展。从最新的 7nm LPP 技术及其 EUV 方案超越了传统的封装方案，三星称其平台解决方案大大增加了芯片的计算能力，并加速了 AI 革命。 你期待用上三星 3nm 工艺处理器的智能手机吗？ END 雷科技商城力荐好物：简单两步还你干净小白鞋！ 夏天最百搭莫过于白鞋，但小白鞋一不小心就变成小脏鞋，因为众所周知的原因——懒，也不可能常常清洗。 有没有简单迅速且便宜好用的办法可以保养小白鞋？有——懒人刷鞋神器（传送门） 戳下方小程序，立马带回家！ |
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