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三星5nm EUV明年量产:Cadence & Synopsys 5nm全流程设计工具已获三星认证!

 毕杰lb7q1kq7pr 2020-12-15

三星代工厂已经认证了Cadence和Synopsys的全流程工具,该工具采用了极紫外光刻(EUV)的5LPE(5nm低功耗早期)工艺技术。芯片开发人员需要全流程设计工具,以便快速为高级节点创建高效且可预测的芯片设计。

三星使用Arm Cortex-A53和Arm Cortex-A57内核认证了Synopsys Fusion设计平台和Cadence全流程数字解决方案全流程设计工具,用于5LPE技术。该认证意味着这些工具满足Samsung Foundry的要求,通过使用它们,芯片设计人员可以获得5LPE技术所承诺的最佳功率,性能和面积(PPA)优势。

三星的5LPE技术依赖于具有新标准单元架构的FinFET晶体管,并使用DUV和EUV步进扫描系统。新的制造工艺使芯片设计人员能够在专为5LPE设计的IC上重复使用7LPP IP,同时享受后者提供的所有优势。与7LPP相比,新技术的“逻辑效率”提高了25%,它还使芯片开发人员能够将设计的功耗降低20%或将性能提高10%。

由三星认证的Candence和Synopsys的工具集包括编译器,验证器,电源电路优化器以及EUV专用工具。

由于三星的5LPE比公司的7LPP工艺使用更多的EUV层,因此预计它将用于三星即将在华城的EUV工厂。该生产线   预计将耗资 6万亿韩元(46.15亿美元),预计2019年完工,并于2020年开始大批量生产。

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