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GaN|意法半导体推出MasterGaN系列新器件,针对非对称拓扑结构进行优化

 大国重器元器件 2021-01-15

ST公司推出基于MasterGaN平台的首个包含两个非对称氮化镓(GaN)晶体管的产品MasterGaN2,提供适合软开关和有源整流转换器拓扑结构的集成GaN解决方案。

性能指标

该650V常闭GaN晶体管的导通电阻RDS(on)为150mΩ和225mΩ。每个晶体管都使用了经优化的栅驱动器,使GaN技术与普通硅器件一样易于使用。通过将先进集成技术与GaN固有性能优势相结合,MasterGaN2进一步实现了有源钳位返驰式(clamp flyback)拓扑结构的效率提升、尺寸减小和重量减轻。

MasterGaN功率封装内系统(SiP)系列将两个GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)和相关高压栅驱动器结合在同一封装内,并内置了所有必要的保护机制。设计者可以轻松地将外部设备(包括霍尔传感器和控制器,如DSP、FPGA或微控制器)直接连接到MasterGaN器件上。输入与3.3V至15V的逻辑信号兼容,有助于简化电路设计和材料清单、减小占地面积、简化装配,有助于提高适配器和快速充电器的功率密度。

内置保护功能包括低压侧和高压侧欠压锁定(UVLO)、栅驱动器互锁、专用关断引脚和过温保护。9mm x 9mm x 1mm GQFN封装针对高压应用进行了优化,高低压焊盘之间的爬电距离超过2mm。

重要意义

GaN技术正在推动快速USB-PD适配器和智能手机充电器的发展。意法半导体的MasterGaN器件使这些器件的体积缩小了80%,重量减轻了70%,充电速度是普通硅基解决方案的三倍。MasterGaN2现已投入生产,1000片订单的价格为6.5美元起。

信息来源
https://www./2021/01/07/stmicroelectronics-extends-mastergan-family-with-new-device-optimized-for-asymmetrical-topologies/

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