|
在集成电路制造领域，如果说光刻机是推动制程技术进步的“引擎”，光刻胶就是这部“引擎”的“燃料”。下图展示了光刻胶如何在一个NMOS三极管的制造工艺中发挥作用。NMOS三级管是半导体制程工艺中常用的集成电路结构之一。
一种 NMOS 三极管集成电路结构的制造过程 在这样一个典型例子中，步骤1中的绿色部分代表红色部分多晶硅材料被涂上了一层光刻胶。在步骤2的光刻曝光过程中，黑色的掩膜遮挡范围之外的光刻胶被都被光刻光源照射，发生了化学性质的改变，在步骤3中表现为变成了墨绿色。在步骤4里，经过显影之后，红色表征的多晶硅材料上方只有之前被光罩遮挡的地方留下了光刻胶材料。 于是，光罩（掩模版）上的图形就被转移到了多晶硅材料上，完成了“光刻”的过程。在此后的步骤5到步骤7里，基于“光刻”过程在多晶硅材料上留下的光刻胶图形，“多晶硅层刻蚀”、“光刻胶清洗”和“N+离子注入”工艺共同完成了一个NMOS 三极管的构造。 上图步骤1中的光刻胶涂胶过程也是一种重要的半导体工艺。其目的就是在晶圆表面建立轻薄，均匀且没有缺陷的光刻胶膜。一般来说，光刻胶膜厚度从0.5um到1.5um 不等，厚度的误差需要在正负0.01um以内。半导体光刻胶的涂敷方法主要是旋转涂胶法，具体可以分为静态旋转法和动态喷洒法。
静态旋转法涂胶过程示意图 静态旋转法：先把光刻胶通过滴胶头堆积在硅片的中心，然后低速旋转使得光刻胶铺开，再以高速旋转甩掉多余的光刻胶。在高速旋转的过程中，光刻胶中的溶剂会挥发一部分。这个过程可以如图表中所示。静态涂胶法中的光刻胶堆积量非常关键，量少了会导致光刻胶不能充分覆盖硅片，量大了会导致光刻胶在硅片边缘堆积甚至流到硅片的背面，影响工艺质量。 名称 cas 1-丙烯酸金刚烷酯 121601-93-2 1-金刚烷基甲基丙烯酸酯 16887-36-8 丙烯酸三环[5.2.1.02,6]癸-8-基酯 7398-56-3 4-乙酰氧基苯乙烯 2628-16-2 1,3-金刚烷二醇单丙烯酸酯 216581-76-9 2-甲基-2-金刚烷醇丙烯酸酯 249562-06-9 2-乙基-2-金刚烷基丙烯酸酯 303186-14-3 1,3-金刚烷二醇二丙烯酸酯 81665-82-9 2-氧代六氢-2H-3,5-亚甲基环戊二烯并[b]呋喃-6-基甲基丙烯酸酯 254900-07-7 甲基丙烯酸三环[5.2.1.02,6]癸-8-基酯[ 34759-34-7 2-异丙基-2-金刚烷丙烯酸甲酯 297156-50-4 2-异丙基-2-金刚烷醇丙烯酸酯 251564-67-7 gamma-丁内酯-3-基异丁烯酸酯 130224-95-2 N-异丙基甲基丙烯酰胺 13749-61-6 (9H-芴-9,9-二基)双(亚甲基)二丙烯酸酯 583036-99-1 (5-氧代四氢呋喃-2-基)甲基丙烯酸甲酯 156938-09-9 1-乙基环戊基甲基丙烯酸酯 266308-58-1 1-异丙基-1-环己醇甲基丙烯酸酯 811440-77-4 2-甲基-2-丙烯酸4-羟基苯基酯 31480-93-0 n-butyl2-(bromomethyl)prop-2-enoate 170216-64-5 2-(溴甲基)丙烯酸甲酯 4224-69-5 甲基丙烯酸-9-蒽甲酯 31645-35-9 2-oxo-2-((2-oxohexahydro-2H-3,5-methanocyclopenta[b]furan-6-yl)oxy)ethylmethacrylate[ 347886-81-1 2-乙烯基萘 827-54-3 2-环己基丙烷-2-基甲基丙烯酸酯 186585-56-8 2-甲基-丙烯酸2-氧代-四氢-呋喃-3-基酯 195000-66-9 丙烯酸甲基环戊酯 178889-49-1 丙烯酸1-乙基环戊酯 326925-69-3 2-氧代四氢呋喃-3-基丙烯酸酯 328249-37-2 4-叔丁氧基苯乙烯 95418-58-9 4-(4-(丙烯酰氧基)丁氧基)苯甲酸 69260-42-0 甲基丙烯酸-2,2,3,3,4,4,4-七氟代-丁酯 13695-31-3 3-(4-vinylphenyloxy)-1-propene 16215-47-7 acetic acid,4-ethenylbenzene-1,2-diol 57142-64-0 1-(1-乙氧基乙氧基)-4-乙烯基苯 157057-20-0 1-甲基环己基甲基丙烯酸酯 76392-14-8 2-氧代-2-(2,2,3,3,3-五氟丙氧基)乙基甲基丙烯酸酯 1176273-16-7 2,5-二甲基己烷-2,5-二基双(2-甲基丙烯酸酯) 131787-39-8 1-甲基环戊基甲基丙烯酸酯 178889-45-7 1-乙基环己基甲基丙烯酸酯 274248-09-8 4-异丙基苯酚 4286-23-1 (2-oxo-1,3-dioxolan-4-yl)methyl 2-methylprop-2-enoate 13818-44-5 乙酸-2-乙烯基苯基酯 63600-35-1 2-(金刚烷-1-基)丁-2-基甲基丙烯酸酯 325991-26-2 1-ethoxyethyl 2-methylprop-2-enoate 51920-52-6 甲基丙烯酸四氢呋喃-2-基酯 15895-80-4 oxan-2-yl 2-methylprop-2-enoate 52858-59-0 6-methacryloyl-6-azabicyclo[3.2.0]heptan-7-one 1267624-16-7 3-叔丁氧基苯乙烯 105612-79-1 2-丙烯酸3-(二乙氧基甲基甲硅烷基)丙基酯 13732-00-8 2,3-二羟基丙烯酸丙酯 10095-20-2 2-[(4-乙烯基苯氧基)甲基]环氧乙烷 2653-39-6 3,5-二乙酰氧基苯乙烯 155222-48-3 2-(2,2-二氟乙烯基)双环[2.2.1]庚烷 123455-94-7 二苯基碘酰氯 1483-72-3 双［4-(1,1-二甲基乙基)苯基］碘鎓与三氟甲磺酸的盐 84563-54-2 全氟丁基磺酸三苯基锍盐 144317-44-2 双(4-叔丁基苯基)氯化碘鎓 5421-53-4 TBPDPS-PFBS 258872-05-8 1二(4-叔丁基苯基)碘鎓全氟代丁烷磺酸盐 194999-85-4 (4-苯基硫代苯基)二苯基锍三氟甲磺酸 111281-12-0 N-羟基萘酰亚胺三氟甲磺酸 85342-62-7 wyf 01.22 |
|
|
