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台湾国立清华大学Ruey-An Doong课题组--面积生长高质量石墨烯/ MoS2垂直通过化学气相沉积和成核控制实现异质结构

 石墨烯研究 2021-08-31

这里,通过溶剂热处理工艺,用零位石墨烯量子点(GQDV2O5纳米片进行纳米功能修饰将其作为阳极材料,显示出增强的电化学储能性质。嵌入的GQD赋予V2O5VNS-GQD)结构和组成方面的优势,包括更大的层间距离,快速电化学动力学,以及额外的稳定性来缓冲体积变化。而且,GQDVNS之间强的耦合效应,超大的界面面积和增强的电导率促进了插层赝电容行为。VNS-GQD1 A g-1电流密度,其比电容572 F g-110000次充放电循环后,仍能保留初始电容的92%。还组装了非对称超级电容器,其工作电压窗口为1.5 V2.25 kW kg-1功率密度下,实现31.25 W h kg-1能量密度。这项工作是通过将GQD嵌入到二维过渡金属氧化物夹层这也为构建其他纳米夹层复合材料提供了新途径,从而应用于超高性能的电化学储能领域。 

Figure 1. 水热法合成VNS-GQD示意图,组装非对称超级电容器的示意图,通过滴涂法,分别将VNS-GQD和中孔碳球(MCS涂覆在碳布上,依次作为阳极和阴极材料

Figure 2. GQD的(a-c)TEM图,HR-TEM图,粒径分布; VNS的(d-f)TEMHR-TEM图,晶格条纹,(gVNS-GQDTEM图。(h)三种样品的XRD图。MCS的(i-ISEM图,TEM图,XRD图和拉曼光谱。

Figure 3. V2O5GQD纳米复合材料的(aTGA和(bBET表面积。(c)三种样品的XPS总谱,以及VNS-GQD的高分辨(d-f)C 1sV 2pO 1s XPS谱。

Figure 4. VNS基纳米材料的(a)EIS奈奎斯特图,(b)循环伏安图(CV)和(c)比电容与扫描速率的关系。(d)恒电流充放电(GCD)曲线,以及(eVNS-GQD-10的循环稳定性。(fVNS-GQD-10在不同扫描速率和电流密度时的比电容。(g)重量比电容和面电容。(h)在5 mV s-1扫速时的CV曲线,以及(i)在活性物质不同负载量时的奈奎斯特图。 

该研究工作由台湾国立清华大学Ruey-An Doong课题组2020年发表在Nanoscale期刊上。原文:Boosting the energy storage performance of V2O5 nanosheets by intercalating conductive graphene quantum dots

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