分享

应用于前沿存储器工艺的先进光刻工艺研发介绍

 奔跑在成长路上 2022-09-27 发布于北京

 《应用于前沿存储器工艺的先进光刻工艺研发介绍》


  报告人 北京超弦存储器研究院 师江柳


  师江柳在报告中详细介绍了北京超弦存储器研究院的情况,DRAM对先进光刻的需求以及研究院先进光刻工作三方面内容。据介绍,DRAM存储芯片市场份额巨大,发展前景广阔,是半导体产业的核心支柱之一。中国的DRAM市场接近全球的60%,但自给能力严重不足,且核心技术受制于人,亟需关键技术的突破。当前,北京超弦存储器研究院积极搭平台、引人才、建队伍、出成果,为国产存储器产业发展提供技术来源、协调资源调配、培养专业人才、实施知识产权保护,致力于成为国内存储器技术发展的“探路人”。

    本站是提供个人知识管理的网络存储空间,所有内容均由用户发布,不代表本站观点。请注意甄别内容中的联系方式、诱导购买等信息,谨防诈骗。如发现有害或侵权内容,请点击一键举报。
    转藏 分享 献花(0

    0条评论

    发表

    请遵守用户 评论公约

    类似文章 更多