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纳米压印光刻（紫外纳米压印）与光学光刻相比，纳米压印技术具有许多优点。它采用了接触式压印方法来实现图形的转移，类似于光学曝光技术中的曝光和显影过程。然后，使用刻蚀传递工艺将结构转移到其他材料上。就像盖章一样，纳米压印技术将只有几纳米的电路刻在模板上，然后将模板盖在橡胶泥上，形成与模板相反的图案。经过脱模后，就能得到一颗芯片。在行业中，这个模板被称为纳米压印胶。 纳米压印技术结合了现代微电子加工工艺和印刷技术，克服了光学曝光技术中光衍射现象造成的分辨率极限问题。它具有超高分辨率、高效率、低成本、适合工业化生产等独特优势。自发明以来，纳米压印技术一直受到学术界和产业界的广泛关注。因此，纳米压印技术被称为微纳加工领域中第三代最有前景的光刻技术之一。 纳米压印光刻不仅可以制造出分辨率为5的高分辨率图形，还具有相对简单的工艺流程（相比光学曝光复杂的系统和电子束曝光复杂的电磁聚焦系统）、高产能（可大面积制造）、低成本（国际权威机构评估同制作水平的纳米压印比传统光学投影光刻至少低一个数量级）、低功耗以及可重复使用压印模板等优势。 纳米压印的技术分类发展至今，相对成熟和普遍的纳米压印加工方式包括三类：热纳米压印、紫外纳米压印和微接触印刷（软刻蚀），其他新型工艺多为此三类工艺的改进版。其中，紫外纳米压印具有最明显的优势，是目前产业化最常见的方式，而微接触纳米压印则主要应用在生物化学领域。 |
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