近红外二区(NIR-II)染料介绍之TTQ-F;TTQ-TF;TTQ-TA;TTQ-TT;TTQ-TTF星戈瑞定制多种TTQ系列近红外二区染
料试剂，用于荧光/光声/光热/光动力学诊疗试剂。近红外二区(NIR-II，1000-1700nm）荧光成像，是一种新型的光学成像
技术，具有成像分辨率高、组织穿透深度高及自发荧光弱等优势，能实现对肿瘤的精准诊断。与传统的NIR-Ⅰ成像技术和其他医学成像方法相
比，NIR-Ⅱ生物成像技术不仅成像深度更深，而且可以更好地避免组织自发荧光和光子散射等背景干扰。NIR-Ⅱ材料由于其独特的优异性，
不仅可以作为生物医学造影剂，而且可用于光热和光动力治疗、药物递送、手术指导和移植干细胞的跟踪等领域。近红外二区染料，TTQ-F??
??分子式：C98H120N4O2S3分子量：1482.22光谱性质：Abs：655nm；Em：983nm???近红外二区染料
，TTQ-TF??分子式：C82H88N4O2S3分子量：1257.60光谱性质：Abs：655nm；Em：983nm???近
红外二区染料，TTQ-TA??分子式：C90H108N8O2S3分子量：1430.07光谱性质：λabs：725nm；λem：9
83nm??近红外二区染料，TTQ-TT??分子式：C48H44N4O2S5分子量：869.21光谱性质：Abs：644nm；
Em：976nm???近红外二区染料，TTQ-TTF??分子式：C106H124N4O2S5分子量：1646.47光谱性质：Ab
s：695nm；Em：997nm? |
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