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然后,利用标准自旋涂层技术将光刻胶层应用于晶圆的表面,通过每分钟几千轮(RPM)高速旋转的晶圆基板产生离心力,能够均匀地将光刻胶层分布在晶圆表面。对低功耗微电子技术的需要推动了几种晶圆衬底技术的发展,以在块体Si衬底和器件金属层之间实现绝缘,如蓝宝石上的硅(SOS,silicon on sapphire)和绝缘体上的硅(SOI, silicon on insulator)。...
芯片制备技术是基于许多制造半导体部件的完整工艺步骤之上的,包括氧化、扩散、离子注入、沉积、光刻和刻蚀等。主要是在硅晶圆的表面形成二氧化硅(SiO2)的工艺。光刻的基本原理就是,部分的光刻胶首先会暴露在透过掩模版的紫外光(Ultravioletray,UV)一定的时间,在后续的显影过程中被紫外光照射过的光刻胶会溶解扩散至显影液中,掩模版上...
超能课堂(66):沙子做的CPU,凭什么卖那么贵?首先将光刻胶(感光性树脂)滴在硅晶圆片上,通过高速旋转均匀涂抹成光刻胶薄膜,并施加以适当的温度固化光刻胶薄膜。以正光刻胶为例,喷射强碱性显影液后,经紫外光照射的光刻胶会发生化学反应,在碱溶液作用下发生化学反应,溶解于显影液中,而未被照射到的光刻胶图形则会完整保留。此时晶体管雏...
沙子的主要成分是二氧化硅,CPU要用到的只是其中的硅元素,即单晶硅,这一步的主要目的就是从沙子中将硅元素熔炼、提纯出来。这一步会将先将光刻胶滴到晶圆上,通过高速旋转涂抹使光刻胶变成均匀一致的薄膜覆盖到晶圆上,之后控制温度将光刻胶进行固化。这一过程会测试出每一片CPU的稳定工作频率、功耗、发热情况,如果在测试过程中能够发现CPU...
最近天天说芯片 — 芯片到底是什么?现在流水线式的单晶硅芯片的制作完整过程包括芯片设计、晶片制作、封装制作、测试等几个环节,其中晶片制作过程尤为的复杂。晶圆的成分是纯硅,硅是由石英沙所精练出来的,晶圆便是硅加以纯化99.9999999%,接着是将这些纯硅制成硅晶棒,成为制造集成电路的石英半导体的材料,将其切片就是芯片制作具体所需要...
半导体系列篇之光刻胶。④ 半导体晶圆加工刻蚀用光刻胶。国内光刻胶由中低端向高端逐步过度,国内厂商已基本可以掌握g线(436nm)和i线(365nm)光刻胶技术,而KrF(248nm)和ArF(193nm)光刻胶核心技术主要被上述日本和美国企业所垄断,KrF目前仅小批量在中芯国际通过验证,ArF尚在起步研发中。邓海博士是当年intel开发铜互连90nm时,铝转铜,光...
以阿斯麦(ASML)为例,智芯研报推出【光刻领域系列专题】,将对ASML进行深度解读,探究ASML 如何在不具备先发优势的情况下逐步占据市场统治地位,找寻国内光刻机领域产业的发展机会。其中与台积电成功研发“浸没 式”光刻机、加入 EUV LLC 组织共同研发 EUV 光刻机,是光刻机历史上的两次突破,也是 ASML 历史上的两次重要转折,第一次使得 AS...
杨振宁的“宇称不守恒”理论告诉你答案。我们先来说说“宇称不守恒理论”,这里有一个关键词“宇称”,用科学家的话说,宇称是内禀宇称的简称。,它是表征粒子或粒子组成的系统在空间反射下变换性质的物理量。了解了粒子和宇称的概念,再来看“宇称不守恒”的定义:在弱相互作用力中,互为镜像的物质的运动不对称。也许正是这种粒子的相互作用...
量子简史(1672——2021),从一个光子说起。前量子时代(16世纪-20世纪初)量子物理学的早期是以经典力学、原子结构解释和电磁学来解释量子现象的。与此同时,量子场理论领域的工作也在继续,量子计算机的概念也首次被理论化。随着费曼提出在量子硬件上模拟量子现象的想法,建立量子应用的竞赛变得更激烈。同时,新的物理学路线发展起来,寻求...
量子简史(1672——2021),从一个光子说起。前量子时代(16世纪-20世纪初)量子物理学的早期是以经典力学、原子结构解释和电磁学来解释量子现象的。与此同时,量子场理论领域的工作也在继续,量子计算机的概念也首次被理论化。随着费曼提出在量子硬件上模拟量子现象的想法,建立量子应用的竞赛变得更激烈。同时,新的物理学路线发展起来,寻求...
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