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??黄瓜的设施栽培面积目前仅次于番茄，是重要的园艺蔬果作物。它属于浅根性作物，根系对氧气的要求较高，所以也是一种较适合气雾栽培管理的品种。黄瓜根冠比小一般为1/8，所以容易根系早衰，只适宜短期多茬栽培，在温室条件下一年可栽培三茬。气雾栽培黄瓜一般选择温室品种，具耐高温与耐低温特性，而且最好是雌性型品种，减少人工授粉用工。 黄瓜育苗有条件的采用气雾育苗法，可直接移栽无缓苗现象，也可以用珍珠岩基质育苗，待长至3片真叶时移栽。为了提高抗性缩短育苗期与促进不定根的大量形成，也可以用快繁育苗及种子苗的断根育苗。如种子育苗一般低温室35天，高温期16-25天，用茎蔓快繁只需5-7天。黄瓜营养液配方采用日本通用园试配方，一般育苗期至开化前采用1个剂量培育，相当于约EC值1.4 ms/cm浓度，开花后可调至1.5剂量（EC值大约为2．0ms／cm)，至第二条瓜开始膨大时，营养液浓度可以提高至2.0剂量的水平(EC值大约为2．6ms／cm)，直至最后收获完毕。黄瓜生长后期容易出现P与K缺乏症，可以适当进行叶面补充。 黄瓜适应的PH值范围较广,在4.5-7.5之间,如营养液配方无误,配制方法得当,养液的PH值一般无需进行调节. 黄瓜与其它瓜果相比，喜欢环境适当高温（25-30度）高湿，如环境空气过于干燥，因其蒸发量大较易出现生理萎蔫，严重时叶片焦枯。温度35℃时达到光合作用补偿点，超过35℃时同化效率下降易形成苦味瓜。黄瓜属于中等光强作物，光饱和点为55KlX,光补偿点为2KlX，黄瓜的日光合速率为双峰曲线，中午有明显的午体现象。 气雾栽培水果黄瓜液温的管理也较为重要，特别是高温期的盛夏及低温期的冬季，作为设施调控栽培，冬季液温不宜低于15℃，夏日液温最好不要超过25℃。当然如冬季白天温室超过18℃以下，对于低于15℃的夜间液温有抵消作用。同样夏日把液温控在23℃以下，也可以抵消白天夏日高温所引起的生理障碍。但总体来说，气雾栽培对液温适应范围相对较宽，不象水培严格，与水培相比，气雾培的最适范围与制限范围都可以漂移5℃。
黄瓜槽式雾培
定植株距0.6米
梯架雾培上梯面套种黄瓜
梯架上层套种水果黄瓜
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