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据相关机构统计，整个2016年，ASML销售了139台光刻机。在半导体设备行业的市场份额在58%左右，其他的对手包括尼康，佳能等。  当然了，半导体设备行业最大的故事是下一代光刻机——EUV，ASML在这方面是毫无疑问的霸主，其极紫外光刻机去年销售了四台，单台的平均售价达1.1亿美元，最新EUV有望在未来几年成为主流。 随着半导体制程工艺演变，工艺推进的成本也越来越高，如今能负担起最新制程研发的基本只剩四家：GlobalFoundries，Intel，三星和台积电。这几家公司采购新一代光刻机的计划对整个行业的推动都极为重要，接下来几代制程工艺极紫外光刻机是核心，Intel，三星，台积电都曾对ASML投资以支持其产品研发。 三星计划在2018年利用EUV实现7nm工艺；台积电今年已经加快了7nm步伐，将在今年二季度测试EUV，计划2019年进入5nm制程；Intel将在2020年进入7nm；GlobalFoundries将在2018年生产7nm芯片，2020年用到EUV。ASML曾在1月表示公司2018年的首批订单已经到手，可见需求量之巨大。 谁会受伤？ 由于成本技术原因，ASML的对手尼康，佳能在高端光刻机上竞争力明显不足，但在中端产品市场仍有一定份额。置购成本（Cost of Ownership）是衡量购买哪个系统的一个关键指标，从尼康和佳能的CoO数据可以看出，影响置购成本的因素有很多，不仅包括设备，还包括材料等等。   EUV的大获成功对尼康和佳能肯定都不是一件好事。更重要的是，对整个半导体行业的供应也会有巨大影响，包括其他设备，材料等方面，最容易受影响的可能就是AMAT，LRCX和PLAB这些上一代光刻设备生产厂家。 今天是《半导体行业观察》为您分享的2017年第95期内容，欢迎关注。 R eading |
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