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锗硅|美国ADI宣布推出低噪声宽带合成器,具有优异相位噪声性能

 大国重器元器件 2020-09-11

ADI公司(ADI)宣布推出一款SiGe宽带合成器,集成了压控振荡器(VCO,据称可在单芯片上提供业界最低的相位噪声性能。

ADF5610小数N分频合成器可产生55 MHz15 GHz的射频输出,适用于各种市场应用,包括航空航天和国防、无线基础设施、微波点对点链路、电子测试和测量以及卫星终端。

与需要多个窄带GaAs压控振荡器和锁相环(PLL)的替代解决方案相比,ADF5610的功耗降低了50%,面积更小,架构更简单,从而节省了材料成本并缩短了产品上市时间。

ADF5610采用ADI公司专有的先进SiGe BiCMOS工艺开发,可实现高调制带宽和低BIT误码率。它具有业界领先的VCO相位噪声(100kHz偏移时为-114dBc / Hz10GHz100MHz偏移时为-165 dBc / Hz),-229dBc / Hz时的低归一化相位本底噪声(FOM)。集成PLL功能提供快速跳频和锁定时间(使用适当的环路滤波器时<50μs)。相位检测器杂散电平典型值低于-45dBcRF输出功率电平为dBm

ADIsimPLLADI公司的PLL合成器设计和仿真工具,完全支持ADF5610,用于评估相位噪声、锁定时间、抖动等。该器件还可通过集成SPI接口和控制软件进行客户编程。

ADF5610的额定温度范围为-40°C+ 85°C。它采用标称3.3V模拟和数字电源以及5V电荷泵和VCO电源供电,具有1.8V逻辑电平兼容性。合成器还包含硬件和软件掉电模式。

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