一文了解半导体制造常用化学品

半导体制造过程中常用的酸

半导体制造过程中常用的碱

半导体制造过程中常用的溶剂

半导体制造过程中常用的通用气体

半导体制造过程中常用的特种气体

硅片湿法清洗化学品

典型的硅片湿法清洗顺序

还有光刻胶、研磨液等。NTI(negative tone image)的显影液等。

来源：半导体光刻技术