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在我国半导体芯片行业，有一家引人注目的知名企业，一个攻下5nm蚀刻技术、令美国都垂涎的公司——中微半导体设备(上海)股份有限公司。 中微公司成立于2004年，主营业务为开发大型真空微观器件工艺设备，主要产品包括刻蚀设备和MOCVD。公司CCP刻蚀设备已批量应用于国内外一线客户从65nm到5nm集成电路制造产线、64层及128层3DNAND产线，并已取得5nm及以下逻辑电路产线的重复订单；ICP刻蚀设备逐步成熟，已成功进入海内外十余家客户的晶圆产线。公司MOCVD设备持续在行业领先客户生产线上大规模投入量产，保持在行业内的领先地位。 中微公司，为什么令人垂涎？ ▶ 等离子体刻蚀设备龙头，MOCVD领军者 中微公司主要业务围绕刻蚀设备和MOCVD设备展开。公司的等离子体刻蚀设备已应用在国际一线客户从65纳米到14纳米、7纳米和5纳米及其他先进的集成电路加工制造生产线及先进封装生产线；MOCVD设备在行业领先客户的生产线上大规模投入量产，公司已成为世界排名前列的氮化镓基LED设备制造商，其市占率在2018年末已达到60%以上。 中微公司瞄准世界科技前沿，创新始终贯穿公司发展。其刻蚀设备巳进入5纳米生产线，MOCVD设备保护领先。公司刻蚀设备主要有电容性等离子体刻蚀设备（CCP） 、电感性等离子体刻蚀设备（ICP） 和深硅刻蚀设备，其中CCP巳经进入5纳米晶圆生产线，ICP设备亦有突破，截止2020年底已有55个反应台在客户端运转。在MOCVD设备上，公司继续发挥在蓝光LED设备的竞争优势，Prismo A7设备在全球氮化镓基LED MOCVD市场占有率高达60%以上。 ▶ 业绩稳健增长，定增加码持续扩产 近年来，中微营收稳健增长，其中刻蚀设备增速强劲。2017-2020年，公司营收从9.72亿元增长至22.73亿元，三年CAGR达32.73%。其中，刻蚀设备收入从2.89亿元增长至12.89亿元，三年CAGR达64.61%，2020年收入占公司设备业务比例达71.65%。 2021年Q1中微实现营收6.03亿元，同比增加46.24%，主要受益于下游扩产，需求旺盛，及公司产品竞争力的持续提升。刻蚀设备和MOCVD设备收入分别为3.48亿元和1.33亿元，标上年同期分别增长63.75%和76.85%。其利润水平通过产品迭代更新实现了持续提升。 另外，在业务规模稳健增长的同时，中微公司于2021年7月完成定增，募资加码扩产，国家大基金二期参与认购。 ▶ 内生外延，布局薄膜/量测赛道 中微持续践行三维发展策略，深耕集成电路关健设备领域、扩展在泛半导体关健设备领域应用并探索其他新兴领域的机会。公司将从刻蚀设备延伸到化学薄膜、检测等其他IC关键设备领域，同时拓展在泛半导体领域设备的应用如显示、MEMS、功率器件、太阳能领域的关健设备。此外，公司还将利用核心技术能力探索其他新兴领域的机会，如环境保护、设备网络等其他方面。 除了组建团队自主研发之外，在新业务上公司亦积极通过投资合作实现外延生长，重点布局了等禹子体刻蚀及其上下游的薄膜沉积设备和测量设备等领域的设备公司。 刻蚀、沉积、薄膜作为晶圆制造工艺中的相互承接的环节，在技术上有相同和承接，随着对多道工艺环节的打通，中微巳逐步成长为业内领先的半导体设备平台型公司. ▶ 资深核心团队，技术背景雄厚 中微公司创始人及核心技术团队资历深厚，核心技术团队成员均出身应用材料、泛林半导体等国际半导体设备龙头企业。创始人、董事长及总经理尹志尧博士在半导体芯片和设备产业有超过30年的行业经验，曾任应用材料企业副总裁、刻蚀产品事业部总经理、亚洲总部首席技求官，是国际等离子体刻蚀技术发展和产业化的重要推动者之一。其他联合创始人、核心技术人员和重要的技术、工程人员，包括杜志游博士、倪图强博士等均为半导体行业资深技术和管理专家。 ▶ MOCVD：GaN外延设备龙头，化合物半导体空间打开 MOCVD指金属有机化学气相沉积，常用于包括GaN、SiC、GaAs、InP在内的化合物半导体外延片制造，面向LED、射频、功率、VCSELS等下游应用。得益于mini LED渗透带来芯片用量增长，上游MOCVD设备迎来需求爆发。中微篮光LED设备快速成熟，与三安、晶电、兆驰等LED巨头保持良好合作，截止2018年Q4巳在全球GaN基MOCVD市场占据70%以上市场份嬴。用于mini/micro LED、功率半导体的设备亦在研发中。并且对于当下发展势头正热的Mini LED，中微正在开发新型MOCVD设备产品，已在客户端取得实质性进展。 |
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