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物理气相沉积(PVD)技术是指在真空条件下采用物理方法将材料源（固体或液体）表面气化成气态原子或分子，或部分电离成离子，并通过低压气体（或等离子体）过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术，物理气相沉积是主要的表面处理技术之一。为了保证处理后的工件硬度和使用寿命，PVD处理技术对原材料有一定的要求。 
薄膜生长即通过采用物理或化学方法使物质附着于衬底材料表面的过程。薄膜生长设备在IC、先进封装、MEMS、平板显示等领域有广泛应用。根据工作原理不同，薄膜生长分为化学气相沉积（CVD）和物理气相沉积（PVD）。CVD是把含有构成薄膜元素的气态反应剂或液态反应剂的蒸汽以合理的速度引入反应室，在衬底表面发生化学反应并在衬底表面上形成薄膜；PVD是通过某种物理过程如蒸发/溅射方法实现物质的转移，使得分子转移到硅表面上并沉积成为薄膜，分为真空蒸发法和溅射法两种。真空蒸馏法目前主要应用于LED电极制造，溅射法则主要应用于集成电路厚道互连工艺中金属薄膜制备。PVD行业产业链上游包括PVD设备、镀膜材料等，下游包括集成电路、机械零件、五金模具等。
从上游PVD镀膜材料来看，近年来我国PVD镀膜材料市场规模日益壮大，至2021年突破100亿元，增长至103.6亿元，同比增长9.2%。我国PVD应用广泛，目前，光伏、集成电路、磁性材料领域是最大的需求市场，2021年的应用占比分别为27.36%、23.21%、18.21%。相关报告：华经产业研究院发布的《2022-2027年中国PVD行业市场深度分析及投资战略规划研究报告》镀膜的主要工艺有物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD）。PVD技术是目前主流镀膜方法，其中的溅射工艺在半导体、显示面板应用广泛。PVD技术分为真空蒸镀法、溅镀法和离子镀法。三种方法各有优劣势：真空蒸镀法对于基板材质没有限制；溅镀法薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜好；离子镀法的绕镀能力强，清洗过程简化，但在高功率下影响镀膜质量。不同方法的选择主要取决于产品用途与应用场景。薄膜沉积设备主要负责各个步骤当中的介质层与金属层的沉积，包括CVD（化学气相沉积）设备，PVD（物理气相沉积）设备和ALD（原子层沉积）设备等。数据显示，2017至2020年，全球半导体薄膜沉积设备市场规模从125亿美元增长至172亿美元，预计到2025年将达340亿美元左右。随着沉积方法和技术的提升，物理气相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金膜、还可以沉积化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜等。全球PVD镀膜服务产值规模不断增长，2021年全球PVD镀膜服务产值规模达到43.27亿美元，同比上升6.97%。2014-2021年，全球PVD镀膜服务市场规模由16.24亿美元迅速增长至42.11亿美元，期间年均复合增长率达14.6%。亚太地区拥有最大的PVD镀膜服务市场，在2021年全球PVD镀膜服务市场中的份额达48.79%。北美为第二大市场，占比20.84%；欧洲紧随其后，PVD镀膜服务规模占全球比重的19.01%。从国内市场来看，2014年我国PVD镀膜服务行业产值为20.18亿元，随着PVD镀膜技术水平的不断提升，下游需求市场稳步发展，至2021年我国PVD镀膜服务产值增长至85.97亿元，2014-2021年期间CAGR为23%。PVD进出口贸易中主要包含半导体及平板显示器领域PVD设备两种。海关编码统计为 “84862022制造半导体器件或IC的物理气相沉积装置”、“84863022制造平板显示器用的物理气相沉积设备（PVD）”。近年来，我国半导体及平板显示器领域PVD设备进出口数量呈波动走势，2021年实现进口量1113台，同比增长11.97%；完成出口量512台，同比减少47.22%。进出口额方面，进口额远大于出口额，根据海关总署数据，2021年我国半导体及平板显示器领域PVD设备进口额为17.27亿美元，出口额进0.14亿美元。目前全球PVD市场高度垄断，应用材料一家独大，市场份额从2018年的74%持续提升至2020年87%，处于绝对龙头地位。PVD镀膜技术镀出的膜层，具有高硬度、高耐磨性、高耐腐蚀性及化学稳定性，膜层的寿命更长，经过批量的应用及生产验证，不仅汽车冲压件的拉伤问题得到了长期的解决，而且对比其他表面处理技术，PVD表面处理技术具有基材不易变形、不易开裂、可反复镀膜的优势，广泛应用于冲压模具领域，大大解决了模具拉毛问题及汽车外覆盖件面品问题，市场前景广阔。华经情报网隶属于华经产业研究院，专注大中华区产业经济情报及研究，目前主要提供的产品和服务包括传统及新兴行业研究、商业计划书、可行性研究、市场调研、专题报告、定制报告等。涵盖文化体育、物流旅游、健康养老、生物医药、能源化工、装备制造、汽车电子、农林牧渔等领域，还深入研究智慧城市、智慧生活、智慧制造、新能源、新材料、新消费、新金融、人工智能、“互联网+”等新兴领域。
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