场致发射 场致发射 场致发射在电极表面处的外加强电场的作用下,电子从电极表面逸出的现象叫场致发射或冷发射。发射的电子流密度与电极材料的性质、电场强度和电极表面的光滑度相关。 (2)阳极引起的击穿:由于阴极发射的电子束,轰击阳极使某点发热产生熔化和蒸汽而发生间隙击穿。 基本信息
场致发射 在电极表面处的外加强电场的作用下,电子从电极表面逸出的现象叫场致发射或冷发射。发射的电子流密度与电极材料的性质、电场强度和电极表面的光滑度相关。场致发射论对真空间隙所以能发生击穿的解释 间隙电场能量集中,在电极微观表面的突出部分发生电子发射或蒸发逸出,撞击阳极使局部发热,继续放出离子或蒸汽,正离子再撞击阴极发生二次发射,相互不断积累,最后导致间隙击穿。 著名的FowlerandNoraheim场发射电流I表达式为: I=AE2e-B/E 式中E------电场强度; A------常数,与发射点的面积有关; B------常数,与电极表面的逸出有关。 在小的间隙(<1mm)及短脉冲电压情况下,可以合理地认为真空间隙击穿是由场致发射引起的,但在长间隙及连续加压与长脉冲电压下,有的学者认为真空的击穿尚存在其它机理: (1)阴极引起的击穿;在强电场下,由于场发射电流的焦耳发热效应,使阴极表面突出物的温度升高,当温度达到临界点时,突出物熔化产生蒸汽引起击穿。 (2)阳极引起的击穿:由于阴极发射的电子束,轰击阳极使某点发热产生熔化和蒸汽而发生间隙击穿。产生阳极引起击穿的条件与电场提高系数和间隙距离有关。 |
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