蒙版 Mask分为开放路径蒙版和闭合路径蒙版两大类。闭合路径蒙版可用于决定图层像素的透明度,开放路径蒙版常用作效果的输入或制作运动路径动画。比如,为多个图层绘制不同位置的蒙版,从而实现在一个画面中同时显示出多个图层的内容。绘制多个蒙版并设置好蒙版之间的关系模式(比如,相加、相减等)就可以创建出更复杂的形状。选中“蒙版路径”属性后,按 Ctrl + C 复制,然后按 Ctrl + V 将其粘贴到位置等属性上,从而制作运动路径动画。要注意的是,蒙版路径顶点的值基于图层坐标系,而图层的位置属性值基于合成坐标系。可尝试在与合成大小的纯色图层上绘制蒙版,然后将“蒙版路径”复制到要按路径运动的图层的位置属性上。对蒙版进行缩放、旋转或平移,并创建基于“蒙版路径”的关键帧。下例动画中,就是建立两个一样内容的文字图层,较亮的文字在上,较暗的文字在下。对较亮的文字图层使用蒙版,并制作移动蒙版路径的关键帧动画。Ae菜单:效果/生成/CC Light Sweep使用选取工具改变部分顶点,或者使用钢笔工具增减顶点、改变顶点位置,还可以通过设置“第一顶点”等来创建关键帧。可以将蒙版路径用作输入的效果有:描边、路径文本、音频波形、音频频谱以及勾画等。可以将闭合蒙版路径用作输入的效果还有:填充、涂写、改变形状、粒子运动场、内部/外部键等。比如,填充效果可对蒙版区域进行填充,涂写效果可在蒙版区域产生手绘线条效果。在时间轴面板上,每个效果属性组下面都有一个“合成选项” Composition Options。可通过点击“+”按钮添加多个“蒙版参考” Mask Reference,以指定效果仅应用在哪些蒙版区域。
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