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光刻胶因其复杂而精确的成分组成，使其具有最高的价值，并被誉为整个半导体制造工艺中最重要的材料之一，被称为“半导体材料皇冠上的明珠”。#光刻胶##光刻机##半导体##化工##原材料# 关注乐晴，洞悉产业格局！  从光刻胶的组成来看，主要包括成膜树脂、溶剂、感光剂（光引发剂、光致产酸剂）和添加剂（表面活性剂、匀染剂等）等部分。 在典型的光刻胶成分中，溶剂占50%~90%，树脂占10%~40%，感光剂占1%~8%，而表面活性剂、匀染剂和其他添加剂的比例不到1%。 其中，光刻胶树脂是占比仅次于溶剂的高分子聚合大光刻刻胶应心成分。 成膜树脂是一种惰性的聚合物基质，其通常与光引发剂搭配使用，是将其他材料聚合在一起的粘结剂，是光刻胶中发挥感光作用的重要成分，决定了曝光后光刻胶的基本性能，以及光刻胶的粘附性、化学抗蚀性，胶膜厚度等基本性能。 树脂的结构设计涉及单国的种化和比度，会直接决定光刻胶在特定波长下可以达到的线宽，也会影响ADR（碱溶解速率）的特性，从而决定曝光能量（EOP）等因素。 光刻胶使用的树脂类型主要有酚醛树脂、甲基丙烯酸树脂、PHS/HS-甲基丙烯酸酯共聚物等合成树脂。 光刻工艺曝光波长从G线/I线缩短到KrF、ArF准分子激光、再到极紫外光EUV；相应的树脂也从酚醛树脂发展到各种含羟基、酯基等基团的聚合物。  目前大多数I/G 线胶通常使用酚醛树脂，但由于酚醛树脂对250nm以下的光有较强的吸收率，并且只能激发一次光化学反应，因此难以满足高精度电路的光敏需求。因此，248nm及以下的光刻胶不再使用酚醛树脂类单体，而是采用化学放大光刻法。 化学放大胶具有良好的光敏性能和稳定性，被广泛应用于高精度电路的光刻胶制造中。 化学放大胶是248nm以下光刻胶的主要成分，主要包括聚合物树脂、光致酸产生剂（PAG）、相应添加剂及溶剂等。 聚合物树脂具有良好的成膜性能和稳定性，能够提供良好的薄膜质量。 光致酸产生剂（PAG）则是光刻胶中最重要的成分之一，它能够在光照射下产生酸，从而引发后续的光化学反应。相应添加剂和溶剂则能够调节光刻胶的性能和粘度等参数。  光刻胶树脂竞争格局全球光刻胶树脂市场主要有两类企业： 一类是拥有自产树脂能力的光刻胶供应商，例如信越化学和杜邦。这些公司不仅拥有树脂合成技术，还掌握着光刻胶配方的专利技术。 另一类是专门生产树脂的生产商，例如东洋合成、住友电木和三菱化学等。这些公司主要为光刻胶行业中的龙头企业提供定制化的树脂产品。 根据智慧芽的统计数据，全球光刻胶专利申请量中，日本和美国分别占据了46%和25%的份额。在企业层面，佳能株式会社、株式会社东芝和三星电子株式会社的专利申请数量位列前三名，均超过了2.3万项。 ArF用聚甲基丙烯酸酯类树脂，单体为甲基丙烯酸酯和丙烯酸酯的衍生物单体，需要由几种单体共聚而成，定制化程度比较高，高端光刻胶难以买到。 当前，全球光刻胶用成膜树脂主要几乎全部由海外垄断，主要由住友化学、信越化学、三菱化学、陶氏化学等企业生产。 我国光刻胶企业使用的树脂90%以上依赖进口，供应商以日本和美国厂商为主。 目前光刻胶用酚醛树脂方面，国内企业技术上取得突破，国内生产企业有圣泉集团通过线性酚醛树脂成功打破国外垄断，现具备大规模量产光刻胶树脂能力，安智电子材料、强力新材等企业也有少量产出；彤程新材已完成TFT-LCD正胶的酚醛树脂、LED光刻胶酚醛树脂量产（建成5000吨成膜树脂产能，预计今年实现量产）、华懋科技（光刻胶领域处于国内领先，且其上游树脂、光敏剂和单体都是自主生产）、万润股份光刻胶用酚醛树脂项目已实现量产。 全球光刻胶成腊树脂生产龙头企业梳理：  |
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