前阵子一个朋友问我反应釜抛光等级的问题,当时由于时间原因解释的不是太清楚。刚好利用五一在家休息的时间整理了下一些关于抛光的要求,来详细说明下抛光的问题。 不管是化工反应釜还是生物反应釜,不锈钢、钛、镍制容器内部很多时候都是有抛光要求的,常见的反应釜内部抛光要求是0.8μm,0.4μm,0.2μm。 说明下,抛光等级可以通过粗糙度仪进行检测。 典型高粘度核心反应设备,比如聚合反应釜、发酵罐,可能对抛光要求会高一点。 粘度这个东西怎么理解呢?就类似于红酒挂壁的感觉。举个形象点的例子,自来水的粘度是1CP,粘度值很低,酸奶粘度比牛奶会高50多倍,止咳糖浆可能会更高。 粘度值决定了搅拌桨叶形式的和搅拌功率的选择。 卫生和食品级容器,能够有效的清洁,降低细菌的生产及其它污染物的风险。容器、管口、搅拌轴及浆叶等与介质接触的表面粗糙度 Ra ≤ 0.4μm;裸露的表面抛光Ra ≤ 0.8μm,并做拉丝处理。 下表是ASME BPE 关于抛光等级的一些要求。 01 — MP (Mechanically Polished)机械抛光 区分机械抛光的就是人工抛光,人工抛光勉强能达到的极限是0.4μm。 02 — EP ( Electro-polished )电解抛光 电解抛光,也叫电化学抛光,是利用阳极在电解池中所产生的电化学溶解现象,使阳极上的微观凸起部分发生选择性溶解,形成平滑表面的方法。 电解抛光时,样品作为阳极,阴极选择不溶性金属,在两极之间加上电压后,逐渐增大电压水平可以得到电解抛光的电压-电流特性曲线,如下图所示。这条曲线分为三段:在 AB 段,电压增大,电流随之增大,样品发生腐蚀;在 BC 段,电压继续增大,电流保持不变,此阶段发生稳定的抛光;在 CD 段,电流又随着电压的增大而增大,发生不均匀抛光。 由此可见,在曲线的不同阶段,阳极金属的溶解特性会发生不同的变化。要获得理想的抛光效果,应选择 BC 段的电压电流来进行抛光。 电解抛光是以被抛光工件作为阳极,不溶性金属作为阴极,两电极同时浸入电解池中通以直流电而产生有选择性的阳极溶解过程。这正好与电镀过程相反。 通过电抛,去除金属表面的尖刺与平滑凹处,可以改善表面形态及结构,形成一层封闭的氧化铬膜,提高管道的抗腐蚀性。一般在做电抛前都先做机械抛光(机械抛光必需是研磨抛光),这样才能使产品表面更光滑,杜绝死角。 电解抛光工艺流程:酸洗→纯水洗→干燥→电解抛光→纯水洗→中和→纯水洗→干燥。 03 — BA (Bright Annealing )光亮退火 所谓光亮退火是在保护气氛或真空中进行退火,以防止氧化,保持表面光亮的退火工艺。 不锈钢光亮退火工艺的目的和要求如下:消除加工硬化获取满意的金相组织,光亮退火炉主要用来进行不锈钢在保护气氛下的成品热处理。当使用性能要求不同时,对光亮退火后金相组织的要求就不同,光亮热处理的工艺也不同。 材料标准中有关于2B板和光亮退火管(BA)的要求,可能很多人没有细看标准,对这个名词都是第一次听说。 BA管是指经光亮退火处理工艺处理的不锈钢管道,广泛应用于石油化工、微电子、光电子、医药、食品行业中用于输送高纯度流体介质(超高纯度氧气、压缩空气、纯水、疫苗等)。 ㊗️大家 五一劳动节快乐! |
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