現今的做法大都採用雷射做為光源，因為具有高同調性和高亮度的特性。 當光通過雙狹縫後，由於兩狹縫之間距離很小，使得從兩狹縫(點波源)出來光波互相干涉，當兩波抵達遠方屏幕時其之間的光程差若為波長整數倍時，形成相長性干涉，同樣的光程若為波長的半整數倍，形成相消性干涉，因此屏幕便會形成明暗相間的條紋，詳細介紹可參考普物實驗之雷射光學(連結 1、2)，或者模擬(連結1、2)。
繞射現象為當光通過障礙物後，偏離原有的直線路徑我們稱之為繞射，通常發繩於障礙物的大小和波長的尺度相距不遠，一般而言繞射可分為Fraunhofer繞射和Fresnel 繞射(連結 1、2)，一般而言光源趨近無限遠，其波前近似於平行波，通過障礙物的繞射我們稱之Fraunhofer繞射，當光源不再是平行波時，稱之為Fresnel 繞射，在教學實驗室裏，最常見到的是單狹縫繞射，我們在狹縫上均勻等分若干點，這些點距離屏幕之距離(光程差)為半波長時為相消性干涉會得到暗紋，若距離為一波長時會得到相長性干涉即亮紋，細節條論可參考普物實驗雷射光學。 歷史上著名的邁克森干涉實驗也是利用光之干涉來做為探究是否存在乙太，其方法和儀器可參考基礎物理實驗之邁克森干涉。
相關連結 1.維基百科：惠更斯原理、Fraunhofer繞射、Fresnel 繞射。 2.普物實驗：雷射光學。 3.基礎物理實驗：邁克森干涉。
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