学术干货 | Origin进阶之基线与峰的处理系列之多峰分析的高阶调控 – 材料牛

前言:
本系列的主要目的是希望大家掌握如下图所示的技能：

即：

1、 基线的寻找与确认。

2、 多峰的寻找及分峰拟合。

3、 多峰分离的高级控制。

在之前的《学术干货 | Origin进阶之基线与峰的处理之基线的确定与扣除》和《学术干货 | Origin进阶之基线与峰的处理系列之多峰的寻找与分峰》中，已经向大家介绍了一下基线寻找与确定，多峰的寻找与分峰拟合。本期是之前两期的基础之上，向大家介绍多峰的处理的高阶操作——多峰分析的高阶调控，从而使大家掌握拟合多峰过程中，对拟合函数类型及函数参数进行限定及修改，到达更加科学、准确地分析多峰的目的。

系列三：多峰分析中的拟合控制

首先，还是通过软件自带的案例进行介绍↓

↑在软件的安装目录找到并打开文件夹中的HiddenPeaks文件（小编的位置是在C:\Program Files\OriginLab\Origin2016\Samples\Spectroscopy）。注意图中箭头。

↑原始谱图的绘制

↑打开峰分析对话框

↑选择好Fit peaks（Pro）的Goal之后，直接在导航窗口点击find peaks。跳过基线操作。按图中箭头所指设定寻峰方法之后可直接点击find寻峰。效果如下↓

↑寻峰后的自动拟合效果

↑选择Fit control，进行拟合控制

↑拟合控制窗口内容

↑拟合控制窗口内容：可以根据需要，选择相应的拟合函数。在信息栏里可以对函数进行预览。

↑拟合控制窗口内容：边界条件设定窗口，可设定函数的各个参数的区间，便于拟合控制。

↑拟合控制窗口内容：迭代计算进行设置。

↑迭代前对拟合参数进行修改与设定，这里是手动设定单峰的峰位置（center）。其他的峰参数也可以在拟合前进行预设，如峰面积，半峰宽等。

↑迭代计算之后的信息

↑拟合后的效果预览

↑报告中有全面的峰分析数据。

然后在进行一些后期的美化作图，即可产生前言中的效果图。这里需要提醒的是，一些细节操作需要自己动手多尝试，才能更加深入地掌握。

整个系列到此结束，谢谢阅读。

本文由材料人编辑部huaxuehexin供稿，材料牛编辑整理。

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