1.工业制HNO34NH3+5O2=(催化剂、△)4NO+6H2O (反应条件:800度高温,催化剂铂铑合金作用下) 2NO+O2=2NO2 3NO2+O2=2HNO3+NO 2.工业制H2SO4沸腾炉: 4FeS2+11O2=(高温)2Fe2O3+8SO2 接触室: 2SO2+O2⇌(加热、催化剂)2SO3 吸收塔: SO3+H2O=(高温)H2SO4 3. 工业制HClH2+Cl2=(点燃)2HCl 然后用水吸收,在合成塔内完成 4.工业制烧碱2NaCl+2H2O=(电解)H2↑+Cl2↑+2NaOH 5.工业制纯碱(侯氏制碱法)NH3+H2O+CO2=NH4HCO3 NH4HCO3+NaCl=NaHCO3+NH4Cl(NaHCO3结晶析出) 总:NaCl+NH3+CO2+H2O=NaHCO3+NH4Cl 2NaHCO3=(△)Na2CO3+H2O+CO2 6.工业制氨气合成塔: 3H2+N2⇌(高温高压催化剂)2NH3 注:催化剂为铁触媒 7. 工业制玻璃(设备名称:玻璃窑)Na2CO3+SiO2=(高温)Na2SiO3+CO2↑ CaCO3+SiO2=(高温)CaSiO3+CO2↑ 8. 工业制硅利用反应 SiO2+2C=(高温) Si+2CO↑ 能得到不纯的粗硅。粗硅需进行精制,才能得到高纯度硅。 首先,使Si跟Cl2起反应: Si+2Cl2=SiCl4(400 ℃~500 ℃) 生成的SiCl4液体通过精馏,除去其中的硼、砷等杂质。然后,用H2还原SiCl4: SiCl4+2H2=(高温) Si+4HCl这样就可得到纯度较高的多晶硅。 9. 工业制漂白粉2Cl2+2Ca(OH)2=CaCl2+Ca(ClO)2+2H2O 10. 工业腐蚀印刷电路板2FeCl3+Cu=2FeCl2+CuCl2 2Fe3++Cu=2Fe2++Cu2+ 11. 工业制金属Na2NaCl=(电解)2Na+Cl2↑ 12.工业制金属MgMgCl2=(电解)Mg+Cl2↑ 13.工业制金属Al2Al2O3=(电解)4Al+3O2↑ 注:催化剂为熔融的冰晶石,化学式为NaAlF6 14.工业制生石灰、二氧化碳高温煅烧石灰石: CaCO3=(高温) CaO+CO2 15.高炉炼铁Fe2O3+3CO=(高温)2Fe+3CO2 16.工业制取水煤气C+H2O=(高温)CO+H2 17. 粗铜的精炼电解:阳极用粗铜 阳极:Cu-2e-=Cu2+ 阴极:Cu2++2e-=Cu |
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