知识星球的伙伴提出了题目的问题。一家Fab厂的设备种类与数量与该厂的产能,工艺节点,产品类型,自动化程度等有关,那么我们今天就来详细介绍下常规的所需机台。设备我这里将其分为工艺设备,检测与量测设备和厂务设备。湿法包括:晶圆电镀机,清洗机,湿法刻蚀机,cmp,湿法去胶机,甩干机等 镀膜:蒸发镀膜机(Evaporation),溅射机(Sputtering),脉冲激光沉积(PLD)等,等离子体增强CVD(PECVD),低压CVD(LPCVD),金属有机CVD(MOCVD),MPCVD,Laser CVD,APCVD,HT-CVD,UHV CVD等干法刻蚀:离子束刻蚀(IBE),ICP-RIE,CCP-RIE,ECR-RIE,DRIE,干法去胶机等。退火:炉管退火设备,快速热退火设备,激光退火设备,等离子体退火设备 光学显微镜,扫描电子显微镜(SEM),原子力显微镜(AFM),椭圆偏振仪,Probe,AOI,XRD,FIB,XPS,SIMS,TEM,四探针等等。 过滤系统:高效微粒空气过滤器(HEPA)和超高效微粒空气过滤器(ULPA),温湿度控制系统:除湿机,加湿器,冷水机组,热交换器,冷却塔等存储系统:Stockers,Buffers等之前的线上课程里,我在线上和我的学员分享了不少关于半导体、尤其是设备领域的数据。虽然课程已经结束,但还是有回放的 如果大家感兴趣,依旧可以扫码报名、或者直接联系我们工作人员,购买相关系列课程视频。谢谢了
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