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足踝特殊体位摄影总则：为避免斜射线引起解剖结构变形失真，需行单侧投照。需进行双侧对比时，要保证双侧摄影过程中所有技术参数相同，且图像不进行缩放和裁剪等后处理操作。 01 踝关节负重位 适应证：用于评估距小腿关节病变 
① 技术参数 摄影距离：80-100 cm 滤线设备：使用滤线器 管电压：65±5 kV 管电流量：6.3 mAs ② 屏蔽防护 屏蔽照射野之外的邻近辐射敏感器官 ③ 受检者体位设计 患者直立于摄影架前，背向摄片架，双足分开均匀受力 ④ 被照部位体位设计 被检侧足跟紧贴探测器，双足内缘平行，或第2跖骨与胫骨轴线同线时站立。胫腓骨长轴与地面保持垂直 ⑤ 中心线 对准内、外踝连线中点上方1cm处。高弓畸形患者，以胫距关节为中心。 ⑥ 照射野 呈垂直方向矩形照射野，踝关节位于影像下1/3处，垂直方向包括胫腓骨下段和足底皮肤边缘，左右方向包括足部和胫腓骨下段皮肤边缘。 ⑦ 显示要求 踝关节诸骨纹理清晰锐利，周围软组织层次可见。 
① 技术参数 摄影距离：80-100 cm 滤线设备：使用滤线器 管电压：65±5 kV 管电流量：6.3 mAs ② 屏蔽防护 屏蔽照射野之外的邻近辐射敏感器官 ③ 受检者体位设计 患者直立于摄影架前，向受检侧转身，双足前后分开 ④ 被照部位体位设计 被检侧足部踩于硬质且不变形的底板上，外踝紧贴探测器，足尖朝前，胫腓骨长轴与地面保持垂直 ⑤ 中心线 对准内踝上方1cm处 ⑥ 照射野 呈垂直方向矩形照射野，踝关节位于影像下1/3处。垂直方向包括胫腓骨下段和足底皮肤边缘，左右方向包括第5跖骨基底部和跟骨后方皮肤边缘。 ⑦ 显示要求 踝关节诸骨纹理清晰锐利，周围软组织层次可见。 02 踝穴位  03 足负重位 适应证：用于评价扁平足，弓形足、足外翻 
① 技术参数 摄影距离：80-100 cm 滤线设备：不使用滤线器 管电压：55±5 kV 管电流量：3.2 mAs ② 屏蔽防护 屏蔽照射野之外的邻近辐射敏感器官 ③ 受检者体位设计 受检者直立于探测器上，双足左右分开均匀用力 ④ 被照部位体位设计 被检侧足尖向前，足长轴与照射野长轴平行 ⑤ 中心线 X线球管向后转动15-20度，中心点位于第3跖骨基底 ⑥ 照射野 呈垂直矩形照射野，垂直方向包括足趾和足跟，左右方向包括足内外侧皮肤边缘 ⑦ 显示要求 清晰显示前足、中足和跗横关节。避免胫骨、腓骨呈像 
① 技术参数 摄影距离：80-100 cm 滤线设备：使用滤线器 管电压：60±5 kV 管电流量：AEC ② 屏蔽防护 屏蔽照射野之外的邻近辐射敏感器官 ③ 受检者体位设计 与踝关节负重侧位相同 ④ 被照部位体位设计 与踝关节负重侧位相同 ⑤ 中心线 第5跖骨基底稍上方 ⑥ 照射野 呈水平方向矩形照射野。垂直方向包括踝关节和足底皮肤边缘，左右方向包括足趾和跟骨后方皮肤边缘 ⑦ 显示要求 足部诸骨纹理清晰锐利，周围软组织层次可见。清晰显示距下关节后关节面、距舟关节和第1跖楔关节 04 籽骨负重轴位 适应证：用于评估籽骨病变、第1跖趾关节病变和拇外翻  ① 技术参数 摄影距离：80-100 cm 滤线设备：使用滤线器 管电压：60±5 kV 管电流量：10mAs或AEC ② 屏蔽防护 屏蔽照射野之外的邻近辐射敏感器官 ③ 受检者体位设计 患者直立于摄影架前，面向摄片架，单足用力踩于籽骨盒上 ④ 被照部位体位设计  被检侧足踩于籽骨盒（图）上，将籽骨置于籽骨盒的最低点，足部长轴与籽骨盒长轴平行。足部用力，并保证胫腓骨长轴与地面（克氏针长轴方向）垂直 ⑤ 中心线 X射线平行于第2跖骨轴线，切入跖籽关节 ⑥ 照射野 呈垂直方向矩形照射野。垂直方向包括踝关节以上2-3cm和克氏针，左右方向包括内外侧足踝部皮肤边缘。 ⑦ 显示要求 籽骨边缘显示清晰，并可准确显示籽骨与第1跖骨位置关系 05 跟骨负重长轴位 适应证：用于评价跟骨内外翻
① 技术参数 摄影距离：80-100 cm 滤线设备：不使用滤线器 管电压：60±5 kV 管电流量：8 mAs ② 屏蔽防护 屏蔽照射野之外的邻近辐射敏感器官 ③ 受检者体位设计 受检者背向球管直立于探测器上，双足略分开均匀用力，双膝伸直，身体无倾斜 ④ 被照部位体位设计 被检侧足部长轴与胫腓骨下段长轴重合，且与照射野长轴方向平行， 胫腓骨长轴与地面保持垂直 ⑤ 中心线 中心点对准后踝，球管向足侧转动45°（图） ⑥ 照射野 呈倒梯形矩形照射野。垂直方向包括胫腓骨下1/2和足跟皮肤，左右方向包括足部和胫腓骨下段皮肤边缘。（图）  ⑦ 显示要求 跟骨和胫腓骨下段骨质清晰，第2跖骨与胫骨力线重合 06 下肢全长位 足踝外科拍摄下肢全长需要患者背对时拍摄，这样可以显示跟骨最低点。
 ·END· 本文作者： 刘丹丹，王智，张永县，胡嘉诚，牛延涛，张明珠 作者单位： 首都医科大学附属北京同仁医院 |
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